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一种以Y2Si2O7为基体的Si3N4/SiO2/SiC基微波吸收陶瓷的制备方法

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专利号 2022103281478 专利名称 一种以Y2Si2O7为基体的Si3N4/SiO2/SiC基微波吸收陶瓷的制备方法
专利类型 发明专利 国际分类 C04B35/16(2006.01),C04B35/628(2006.01)
申请人 申请地址 610016 四川省成都市龙泉驿区外东十陵镇
发明人 申请日期 2022-03-30
下证状态 未知 更新时间 2025-01-14 07:32:00
专利摘要 本发明涉及一种以Y2Si2O7为基体的Si3N4/SiO2/SiC基微波吸收陶瓷的制备方法,属于微波吸收材料技术领域。本发明将Si(OC2H5)4溶解于乙醇中得到溶液A,Y(NO3)3·6H2O搅拌溶解于去离子水中得到溶液B;室温下,溶液A和溶液B搅拌混合得到凝胶C,凝胶C干燥得到干凝胶,干凝胶研磨成凝胶粉,凝胶粉进行冷压成型后置于温度为1400~1500℃的空气中烧结热处理2~3h,得到Y2Si2O7粉末;Y2Si2O7粉末采用碳化硅化学气相渗透技术沉积,得到SiC‑Y2Si2O7复合陶瓷,SiC‑Y2Si2O7复合陶瓷经温度为1100~1200℃下氧化2~3h,得到SiO2/SiC‑Y2Si2O7复合陶瓷,SiO2/SiC‑Y2Si2O7复合陶瓷经氮化硅化学气相渗透技术沉积得到Si3N4/SiO2/SiC‑Y2Si2O7复合陶瓷。本发明复相陶瓷的电磁波吸收性能的可控性调节。

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