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二阶非线性光学晶体材料{[Tb(NMP)<base:Sub>7</base:Sub>][WS<base:Sub>4</base:Sub>Ag<base:Sub>3</base:Sub>I<base:Sub>4</base:Sub>]}的制备方法

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专利号 2016101126504 专利名称 二阶非线性光学晶体材料{[Tb(NMP)<base:Sub>7</base:Sub>][WS<base:Sub>4</base:Sub>Ag<base:Sub>3</base:Sub>I<base:Sub>4</base:Sub>]}的制备方法
专利类型 发明专利 国际分类 C30B29/46;G02F1/355;C30B7/14
申请人 江南大学 申请地址 江苏省无锡市滨湖区蠡湖大道1800号
发明人 张金方;刘宇航;张弛 申请日期 2016-02-29
下证状态 未知 更新时间 2023-06-17 08:04:43
专利摘要 本发明公开了一种具有倍频效应近似磷酸二氢钾晶体的二阶非线性光学晶体材料{[Tb(NMP)7][WS4Ag3I4]}的制备方法。将硫化氢通入到钨酸的氨水溶液中反应，经抽滤、干燥制得四硫代钨酸铵；碘化银和四硫代钨酸铵加入N‑甲基‑2‑吡咯烷酮溶剂制得溶液；将六水合硝酸铽加入制得的溶液中搅拌，制得含二阶非线性光学晶体材料{[Tb(NMP)7][WS4Ag3I4]}的溶液，过滤后，加入沉淀剂，经过结晶、过滤、洗涤、干燥即得到二阶非线性光学晶体材料{[Tb(NMP)7][WS4Ag3I4]}。本发明的优点为：获得一种具备优良二阶非线性光学性能的晶体材料{[Tb(NMP)7][WS4Ag3I4]}。

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