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一种硅光阴极及其制备方法

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专利号 2016105990524 专利名称 一种硅光阴极及其制备方法
专利类型 发明专利 国际分类
申请人 苏州大学 申请地址 江苏省苏州市工业园区仁爱路199号
发明人 沈明荣;范荣磊;辛煜;唐成双 申请日期 2016-07-27
下证状态 未知 更新时间 2023-04-18 08:24:23
专利摘要 本发明提供了一种硅光阴极及其制备方法,该制备方法包括:S1)在硅电极与光阳极相对的表面上进行析氢催化剂修饰,得到修饰后的硅电极;S2)在步骤S1)得到的修饰后的硅电极不含析氢催化剂层的表面上制备钝化保护层,得到硅光阴极。与现有技术相比,本发明使析氢催化剂直接与硅表面接触,能形成较好的欧姆接触,可以减少电极的串联电阻,使其具有较好的电化学性能,提高了光阴极的填充因子以及光解水效率。

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