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实时变参量微纳米光场调制系统和干涉光刻系统

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专利号 2016100047789 专利名称 实时变参量微纳米光场调制系统和干涉光刻系统
专利类型 发明专利 国际分类 G02B27/00;G03F7/20
申请人 苏州大学 申请地址 江苏省苏州市工业园区仁爱路199号
发明人 叶燕;许峰川;魏国军;许宜申;浦东林;陈林森 申请日期 2016-01-06
下证状态 未知 更新时间 2023-04-18 08:20:49
专利摘要 本申请公开了一种实时变参量微纳米光场调制系统和干涉光刻系统,该光场调制系统包括光源、4F光学系统和光波调制光学元器件组,4F光学系统包括沿光路依次设置的第一光学组件和第二光学组件,光波调制光学元器件组设置于第一光学组件和第二光学组件之间,该光波调制光学元器件组通过对子波面分段调制,在系统的后焦面产生图案及结构参数可调的光场分布。本发明通过子元件实现对子波面的分立、实时调控,通过改变子元件组合方式可实现不同微纳米图案的实时输出,通过子元件的位置或子元件间相对位置变化可实现结构参数的连续调制。该系统可灵活集成于各种光刻或显微系统中,实现变参量微纳米结构的实时写入和可调制微纳米结构光检测。

交易流程

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