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一种紫外光辐射制备荧光硅纳米颗粒的方法

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专利号 2014104683619 专利名称 一种紫外光辐射制备荧光硅纳米颗粒的方法
专利类型 发明专利 国际分类 C09K11/59;G01N21/64;B82Y40/00
申请人 苏州大学 申请地址 江苏省苏州市工业园区仁爱路199号
发明人 何耀;钟旖菱 申请日期 2014-09-15
下证状态 未知 更新时间 2023-04-18 08:13:03
专利摘要 本发明公开了一种紫外光辐射制备荧光硅纳米颗粒的方法,将硅源化合物加入到还原性化合物的水溶液中,再加入配体化合物配成前体溶液,在紫外光下辐射,得到水溶性的荧光硅纳米颗粒。本发明的方法完全在水相中进行,操作安全,快速简便,毒性小,原料安全易得。所得的荧光硅纳米颗粒有很好的单分散性,荧光性质和量子产率高,稳定性好,具有良好的水溶性,可以作为荧光标记物广泛用于生物检测和分析,有望用于相关光学的工业生产上。

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