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一种全息凹面闪耀光栅的母板及其制备方法

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专利号 2014101546338 专利名称 一种全息凹面闪耀光栅的母板及其制备方法
专利类型 发明专利 国际分类 G02B5/18;G03F7/20
申请人 苏州大学 申请地址 江苏省苏州市苏州工业园区仁爱路199号
发明人 李朝明;陈新荣;吴建宏;胡祖元 申请日期 2014-04-17
下证状态 未知 更新时间 2023-04-18 08:11:35
专利摘要 本发明公开了一种全息凹面闪耀光栅的母板及其制备方法,制作步骤如下:(1)制备全息凹面光栅掩模;(2)在全息凹面光栅掩模上沉积金属层;(3)在所述金属层上涂布粘合剂;(4)将与凸模连接的金属层和所述全息凹面光栅掩模分离,清洗,获得凸面金属光栅掩模;(5)测量所述凸面金属光栅掩模的栅齿结构,获得栅齿占空比信息;采用电铸或镀膜的方式以及化学腐蚀或离子刻蚀的方式调节栅齿的占空比;(6)采用离子束刻蚀凸面金属光栅掩模,使凸面金属光栅掩模转变成三角形闪耀结构,得到全息凹面闪耀光栅的母板。本发明将凹面光栅掩模结构转移到凸面金属层上,金属层柔韧性好,光栅槽型结构转移精度高,不易开裂变形,耐用性好。

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