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一种全息双闪耀光栅的制作方法

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专利号 2011103184554 专利名称 一种全息双闪耀光栅的制作方法
专利类型 发明专利 国际分类 G02B5/18;G03F7/00
申请人 苏州大学 申请地址 江苏省苏州市工业园区仁爱路199号
发明人 刘全;吴建宏;陈明辉 申请日期 2011-10-19
下证状态 未知 更新时间 2023-04-18 08:07:29
专利摘要 本发明是一种全息双闪耀光栅的制作方法,所述全息双闪耀光栅的两个闪耀角分别是A闪耀角和B闪耀角,通过A、B两个光栅区上分别使用光刻胶光栅和同质光栅为掩模进行斜向离子束刻蚀,实现两个闪耀角的不同控制,避免了二次光刻胶光刻工艺。由于在制作同质光栅时,可以控制正向离子束刻蚀的时间,使同质光栅的槽深得到精确控制,另外由于同质光栅掩模和基片是同一种材质形成,两者的刻蚀速率始终保持一致,因此可以实现闪耀角的精确控制。

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卖方 企业营业执照
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