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专利号	2008100231161	专利名称	248纳米波段的零级抑制相位掩模
专利类型	发明专利	国际分类	G02B5/18;G02B27/44;G02B6/02
申请人	苏州大学	申请地址	江苏省苏州市苏州工业园区仁爱路199号
发明人	刘全;吴建宏;胡祖元;陈新荣;李朝明	申请日期	2008-07-14
下证状态	未知	更新时间	2023-04-18 08:06:41
专利摘要	本发明公开了一种248纳米波段的零级抑制相位掩模，主要由石英基片以及设置在石基基片一侧表面的槽形结构的光栅构成，其特征在于：所述相位掩模的光栅周期为1050nm～1090nm，槽形深度为240～260nm，所述光栅的每一凸起结构的截面形状为上窄下宽的梯形，梯形的顶部占宽比为0.40～0.46，梯形角为5～13度。本发明的相位掩模，实现了透射248纳米波段激光的零级抑制，相位掩模的零级透过率可以被抑制在2％以内；±1级透射衍射效率高于36％，且与入射光的偏振状态无关。

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