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一种基于参考光栅二次曝光的大面积全息光栅制备方法
院校-
发明专利
专利类型 -
未知
专利状态 -
2008101556391
专利号
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专利信息
数据仅供参考，具体信息可联系在线顾问
| 专利号 | 2008101556391 | 专利名称 | 一种基于参考光栅二次曝光的大面积全息光栅制备方法 |
|---|---|---|---|
| 专利类型 | 发明专利 | 国际分类 | G03F7/00;G02B27/60;G02B5/18;G03H1/04 |
| 申请人 | 苏州大学 | 申请地址 | 江苏省苏州市苏州工业园区仁爱路199号 |
| 发明人 | 李朝明;吴建宏;陈新荣 | 申请日期 | 2008-10-10 |
| 下证状态 | 未知 | 更新时间 | 2023-04-18 08:06:38 |
| 专利摘要 | 本发明公开了一种基于参考光栅二次曝光的大面积全息光栅制备方法，在主全息干板上制备衍射光栅，包括下列步骤：(1)固定参考全息干板；(2)遮挡主全息干板，用全息光栅记录光场制备参考光栅；(3)使参考光栅与记录光场形成较疏的莫尔条纹，莫尔条纹的方向与参考光栅的线条方向垂直，记录该莫尔条纹信息；(4)对主全息干板的第一部分曝光、显影；(5)同步移动主全息干板和参考全息干板，调节参考光栅和记录光场的相对位置，使再现的莫尔条纹信息与步骤(3)中一致；(6)对主全息干板的第二部分曝光、显影，完成全息曝光拼接光栅的制作。本发明实现了衍射光栅制备过程中相邻区域的拼接，保证了光栅条纹的平行精度和相位关系，可用于制备大面积的衍射光栅。 | ||
交易流程
转让材料
| 买卖双方需提供 | 平台提供 | 转让后买方可获得 | ||
|---|---|---|---|---|
| 企业 | 个人 | 专利代理委托书 专利权转让协议 办理文件副本请求书 发明人变更声明 | 专利证书 手续合格通知书 专利登记簿副本 | |
| 买方 | 企业营业执照 企业组织机构代码证 | 身份证 | ||
| 卖方 | 企业营业执照 专利证书原件 | 身份证 专利证书原件 | ||
服务保障
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