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一种制作近红外波段三维光子晶体的方法
院校-
发明专利
专利类型 -
未知
专利状态 -
2008101567714
专利号
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专利信息
数据仅供参考，具体信息可联系在线顾问
| 专利号 | 2008101567714 | 专利名称 | 一种制作近红外波段三维光子晶体的方法 |
|---|---|---|---|
| 专利类型 | 发明专利 | 国际分类 | G02B6/122;G03F7/36;G03F7/42;G03F7/00 |
| 申请人 | 苏州大学 | 申请地址 | 江苏省苏州市苏州工业园区仁爱路199号 |
| 发明人 | 刘全;吴建宏;辛煜;陈新荣;李朝明;胡祖元 | 申请日期 | 2008-09-26 |
| 下证状态 | 未知 | 更新时间 | 2023-04-18 08:06:35 |
| 专利摘要 | 本发明公开了一种制作近红外波段三维光子晶体的方法，利用全息干涉形成一维光子晶体掩模，通过离子束刻蚀或反应离子束刻蚀把掩模转移到硅基底材料上的SiO<sub>2</sub>层上，在刻蚀过的沟槽里填入高折射率材料，用离子束刻蚀法抛光表面，接着再沉积上SiO<sub>2</sub>，涂布光刻胶、全息光刻、离子束刻蚀等形成第二层，重复以上步聚，层与层之间采用莫尔条纹法对准，最后使用酸洗法去除SiO<sub>2</sub>，获得所需的三维光子晶体。本发明充分利用了全息光刻的亚微米分辨率，可以制作大面积的三维光子晶体，之后可根据需要切割成小块，具有高效低成本的优势；同时，在干涉场中，通过改变两束相干光的波前，便于引入大面积、周期性的缺陷。 | ||
交易流程
转让材料
| 买卖双方需提供 | 平台提供 | 转让后买方可获得 | ||
|---|---|---|---|---|
| 企业 | 个人 | 专利代理委托书 专利权转让协议 办理文件副本请求书 发明人变更声明 | 专利证书 手续合格通知书 专利登记簿副本 | |
| 买方 | 企业营业执照 企业组织机构代码证 | 身份证 | ||
| 卖方 | 企业营业执照 专利证书原件 | 身份证 专利证书原件 | ||
服务保障
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