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专利号	2009102317373	专利名称	一种制作全息双闪耀光栅的方法
专利类型	发明专利	国际分类	G02B5/18;G03F7/00
申请人	苏州大学	申请地址	江苏省苏州市苏州工业园区仁爱路199号
发明人	刘全;吴建宏;汪海宾;胡祖元;陈新荣;李朝明	申请日期	2009-12-03
下证状态	未知	更新时间	2023-04-18 08:06:22
专利摘要	本发明公开了一种制作全息双闪耀光栅的方法，其特征在于，包括下列步骤：(1)在光栅基片上涂布光刻胶；(2)进行第一次干涉光刻，制作符合A闪耀角要求的光刻胶光栅掩模；(3)对于A光栅区的光栅掩模，通过倾斜Ar离子束扫描刻蚀，形成三角形的闪耀光栅槽形；清洗基片；(4)重新涂布光刻胶；(5)将B光栅区进行遮挡，利用已制备完成的A光栅区进行莫尔条纹对准，然后去除遮挡，进行第二次干涉光刻，制作符合B闪耀角要求的光刻胶光栅掩模；(6)通过倾斜Ar离子束扫描刻蚀，将B光栅区刻蚀形成三角形的闪耀光栅槽形；(7)清洗基片，得到全息双闪耀光栅。本发明实现了全息双闪耀光栅的制作，能够精确地分别控制两个闪耀角。

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