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专利号	2011101788776	专利名称	一种激光干涉光刻系统
专利类型	发明专利	国际分类	G02B7/00;G03F7/20
申请人	苏州大学	申请地址	江苏省苏州市工业园区仁爱路199号
发明人	彭长四;董晓轩;张伟;顾小勇;周云;刘维萍	申请日期	2011-06-29
下证状态	未知	更新时间	2023-04-18 08:05:55
专利摘要	本发明公开一种激光干涉光刻系统，包括：至少两个镜组；所述镜组包括：分光镜、第一全反镜和第二全反镜；所述镜组的分光镜均位于入射光的主光轴上；不同镜组位于所述主光轴的不同位置；入射光经过所述镜组的分光镜后，产生反射光和透射光；所述反射光经过本镜组的第一全反镜和第二全反镜的反射后，照射在待光刻样品的干涉点；所述透射光成为与本镜组相邻的镜组的入射光。采用本发明所公开的激光干涉光刻系统，干涉光线的入射面可以围绕入射光线的主光轴，进行任意角度的调节，大大增加了干涉光束入射面之间角度的调节范围，能够满足干涉图样的多样性。

买卖双方需提供			平台提供	转让后买方可获得
	企业	个人	专利代理委托书专利权转让协议办理文件副本请求书发明人变更声明	专利证书手续合格通知书专利登记簿副本
买方	企业营业执照企业组织机构代码证	身份证
卖方	企业营业执照专利证书原件	身份证专利证书原件