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专利号	2008100221193	专利名称	纳米修饰高分子荧光材料及其制备方法
专利类型	发明专利	国际分类	C09K11/06;C08F8/34;C08K3/30;C08F12/08
申请人	苏州大学	申请地址	江苏省苏州市苏州工业园区仁爱路199号
发明人	路建美;董延茂;徐庆锋;王丽华	申请日期	2008-06-23
下证状态	未知	更新时间	2023-04-18 08:05:31
专利摘要	本发明公开了一种纳米修饰高分子荧光材料，它是由纳米硫化物修饰巯甲基化聚苯乙烯而成的，所述纳米硫化物选自纳米硫化镉、纳米硫化铜、纳米硫化锌、纳米硫化锰中的一种。其制备方法是，首先由4－乙烯基苄氯和苯乙烯聚合反应，制备氯甲基化聚苯乙烯；再进行巯甲基化，获得巯甲基化聚苯乙烯；最后原位合成纳米粒子，得到所需纳米修饰高分子材料。本发明获得的材料具有多端基修饰、纳米粒子含量可控、高分子经修饰后荧光增强和存在荧光位移的特点，在离子检测、光电能量转化方面具有一定的应用潜能。

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