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金属纳米粒子修饰的图形化衬底LED的制备方法

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专利号 201810415268X 专利名称 金属纳米粒子修饰的图形化衬底LED的制备方法
专利类型 发明专利 国际分类 H01L33/10;B82Y30/00;H01L33/20;H01L33/00;H01L33/12
申请人 五邑大学 申请地址 广东省江门市蓬江区东成村22号
发明人 杨为家;何鑫;王诺媛;刘俊杰;刘铭全;刘艳怡;蒋庭辉;江嘉怡;刘均炎 申请日期 2018-05-03
下证状态 未知 更新时间 2023-03-01 10:15:04
专利摘要 本发明公开了一种金属纳米粒子修饰的图形化衬底LED的制备方法,包括以下步骤:1)在图形化衬底上形成一层金属薄膜,快速升温至750‑1200℃,退火1‑10min,即可在图形化衬底上形成金属纳米粒子;2)转移至MOCVD生长室中,生长缓冲层;3)生长u型GaN、n型GaN、InGaN/GaN量子阱、AlGaN电子阻挡层和p型GaN,即可获得金属纳米粒子修饰的图形化衬底LED。本发明利用金属纳米粒子作为掩膜,提高缓冲层的横向外延过生长,降低位错密度,达到提高磊晶的效果;使用金属纳米粒子,有利于减小缓冲层的厚度;Au或Ag纳米粒子对光具有较好的反射特性,将有源层发出来的光和LED表面反射回来的光发射出去,提高了LED器件的出光效率。

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