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一种铜箔表面三维结构的构造方法

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专利号 2017114665112 专利名称 一种铜箔表面三维结构的构造方法
专利类型 发明专利 国际分类 C25F3/22,H01M4/80,H01M4/66,C23F1/34
申请人 上海应用技术大学 申请地址 上海市徐汇区漕宝路120-121号
发明人 张全生;党国举;周敦凡;闵凡奇;张绍乙;张绍凡;樊亚平 申请日期 2017-12-28
下证状态 已下证 更新时间 2026-09-19 17:17:27
专利摘要 本发明公开了一种铜箔表面三维结构的构造方法。该方法以铜箔为处理对象,先电化学抛光处理铜箔表面,接着通过化学氧化法在铜箔表面刻蚀不同表观结构的三维形貌,然后通过不同的烘干方式,使铜箔表面表现不同的亲疏水性,最后与金属锂共熔还原,再用乙醇处理即得到表面具有三维结构的铜箔。本方法制得的铜箔集流体能很好保持化学氧化刻蚀后的微纳米形貌,而且这种三维结构的集流体还可以作为锂电池金属锂负极的载体,适合大电流充放,可以使金属锂沉积于微孔内部,避免金属锂平面生长的尖端效应,抑制锂枝晶的生长,降低锂电池的可逆容量损失,使锂电池具有良好的循环性能及高的安全性能,并具有较高的能量密度。

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