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专利号	2023105677455	专利名称	一种高活性晶面共暴露Bi
专利类型	发明专利	国际分类	B01J 27/06 (2006.01),C01G 29/00 (2006.01),C02F 1/30 (2023.01),C02F 101/36 (2006.01)
申请人	辽宁大学	申请地址	辽宁省沈阳市沈北新区道义南大街58号
发明人	刘雪岩,王鲁宁,宋宁,张晓杰,张蕾	申请日期	2023-05-19
下证状态	未知	更新时间	2026-09-21 17:45:09
专利摘要	本发明涉及一种高活性晶面共暴露Bi<supgt;0</supgt;/BiOBr吸波材料及制备方法和应用。本发明通过简单的溶剂热法制备了具有特定{110}与{102}高活性晶面共暴露2D BiOBr纳米片，进一步水热在其表面原位生长0D半金属Bi<supgt;0</supgt;，得到Bi<supgt;0</supgt;/BiOBr{110/102}复合吸波材料。该材料在MW驱动下对全氟辛酸(PFOA)展现了超高的催化活性，在含氟环境水体净化方面具有潜在的应用前景。

买卖双方需提供			平台提供	转让后买方可获得
	企业	个人	专利代理委托书专利权转让协议办理文件副本请求书发明人变更声明	专利证书手续合格通知书专利登记簿副本
买方	企业营业执照企业组织机构代码证	身份证
卖方	企业营业执照专利证书原件	身份证专利证书原件