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一种高速晶体管及其制造方法

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专利号 2018112430028 专利名称 一种高速晶体管及其制造方法
专利类型 发明专利 国际分类 H01L21/34,H01L29/778,H01L29/24
申请人 申请地址 广东省深圳市宝安区西乡街道宝田一路臣田工业区37栋2楼东
发明人 申请日期 2018-10-24
下证状态 未知 更新时间 2026-09-21 17:45:09
专利摘要 本发明属于电子技术领域,公开了一种高速晶体管及其制造方法,高速晶体管包括衬底层;设置在衬底层上表面的沟道层;设置在沟道层上表面的第一非掺杂(AlxGa1‑x)2O3层;设置在第一非掺杂(AlxGa1‑x)2O3层上表面的高掺杂(AlxGa1‑x)2O3层;设置在高掺杂(AlxGa1‑x)2O3层上表面的电压调制层;间隔设置在电压调制层上表面的源电极和漏电极;及设置在电压调制层上表面,且位于源电极和漏电极之间区域的栅电极;由于通过超宽禁带半导体材料体系制备新型高速大功率晶体管,并通过高掺杂(AlxGa1‑x)2O3层调制形成异质结二维电子气,有效提高了器件的频率和功率性能,同时提高了器件材料自身击穿电压,从而降低对器件封装的要求,增加了产品的市场竞争力。

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卖方 企业营业执照
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身份证
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