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一种暴露(001)晶面二氧化钛/碳化钛纳米片及其制备方法和应用

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专利号 2021108742048 专利名称 一种暴露(001)晶面二氧化钛/碳化钛纳米片及其制备方法和应用
专利类型 发明专利 国际分类
申请人 陕西科技大学 申请地址
发明人 谈国强 申请日期 2021-07-30
下证状态 未知 更新时间 2026-09-21 17:45:09
专利摘要 本发明提供一种暴露(001)晶面二氧化钛/碳化钛纳米片及其制备方法和应用,包括以下步骤:步骤1,将碳化钛MXene粉体和晶面控制剂分散在HCl溶液中,得到前驱液;步骤2,将前驱液在140~180℃下进行水热反应,得到反应液,将反应液中的沉淀分离后洗涤干燥,得到暴露(001)晶面二氧化钛/碳化钛纳米片。在近红外光下对抗生素和有机染料降解是由于TiO2/Ti3C2纳米片中Ti3C2表面等离子激元效应,TiO2的光生载流子的分离效率和Ti3C2表面等离子激元效应的协同效应使其在可见光和模拟太阳光下对抗生素和有机染料具有降解作用。

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