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基于黑磷-氧化石墨烯量子点的薄膜、忆阻器及制备方法

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专利号 2022103797763 专利名称 基于黑磷-氧化石墨烯量子点的薄膜、忆阻器及制备方法
专利类型 发明专利 国际分类 H01L45/00(2006.01)
申请人 陕西科技大学 申请地址 710021 陕西省西安市未央区大学园
发明人 尉国栋 申请日期 2022-04-12
下证状态 未知 更新时间 2026-09-23 17:33:30
专利摘要 本发明提供基于黑磷‑氧化石墨烯量子点的薄膜、忆阻器及制备方法,薄膜包括依次连接在一起的上层结构、中层结构和下层结构,上层结构和下层结构的材料均为氧化石墨烯纳米片,中层结构的材料为黑磷‑氧化石墨烯量子点复合物。上层结构和下层结构的氧化石墨烯纳米片可以很好的将中间层包覆住,这些氧化石墨烯纳米片中层结构上下表层的黑磷纳米片形成P‑C键。该薄膜制备简单,采用该薄膜制备的忆阻器,在自然环境中放置了3个月还能保持很好的性能。

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