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一种面向合成应用的多层次仿射类抠像方法

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专利号 202010544350X 专利名称 一种面向合成应用的多层次仿射类抠像方法
专利类型 发明专利 国际分类 G06T 3/04 (2024.01),G06T 7/194 (2017.01),G06V 10/764 (2022.01)
申请人 哈尔滨商业大学 申请地址 黑龙江省哈尔滨市南岗区通达街138号
发明人 姚桂林 申请日期 2020-06-15
下证状态 未知 更新时间 2026-09-23 17:33:30
专利摘要 本发明公开了一种面向合成应用的多层次仿射类抠像方法。步骤1:利用基于HSV颜色空间的仿射类方法,针对实体像素计算初级α<supgt;HSV</supgt;值,并为后续步骤提供实体像素的先验值;步骤2:利用初级α<supgt;HSV</supgt;值、直接搜索、间接搜索与拟合性约束,针对混合像素计算初级前景F<supgt;pre</supgt;与背景B<supgt;pre</supgt;,并为后续步骤提供α与前景的混合像素的先验值;步骤3:利用步骤1的α与前景的混合像素的先验值,并引入联合性Laplacian抠像矩阵与拟合性约束,同步求出最终的α<supgt;*</supgt;与前景值F;步骤4:利用步骤3最终的α<supgt;*</supgt;与前景值F与新背景B′合成图像I′。本发明采用搜索范围更远的KNN仿射类求解方法取代最近邻方法,以期获取空间距离更远的样本。

交易流程

转让材料

买卖双方需提供 平台提供 转让后买方可获得
企业 个人 专利代理委托书
专利权转让协议
办理文件副本请求书
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专利证书
手续合格通知书
专利登记簿副本
买方 企业营业执照
企业组织机构代码证
身份证
卖方 企业营业执照
专利证书原件
身份证
专利证书原件

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