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一种铁电纳米点阵列中导电性调控的表征方法

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专利号 2019107432136 专利名称 一种铁电纳米点阵列中导电性调控的表征方法
专利类型 发明专利 国际分类 B82Y30/00,B82Y35/00,B82Y40/00,G01Q60/02
申请人 淮阴工学院 申请地址 江苏省淮安市洪泽区东七街三号高新技术产业园A12-2(淮阴工学院技术转移中心洪泽分中心)
发明人 翟俊杰 申请日期 2019-08-13
下证状态 未知 更新时间 2026-09-17 17:22:59
专利摘要 本发明公开了一种铁电纳米点阵列中导电性调控的表征方法,属于纳米铁电材料制备和微纳表征技术领域,通过离子束刻蚀铁电薄膜获得高密度纳米点阵列;借助于矢量压电力显微术表征获得铁电拓扑畴的畴结构;使用导电原子力显微镜观测到纳米点中的导电通道,二维电流图像表明单个纳米点中的导电区域为几十纳米,这些导电通道具有类似于金属导电的特性;联合压电力显微镜和导电原子力显微镜获得极化对导电性的调控;可用于开发非易失性的、高密度的铁电随机存取存储器;纳米点的中心型畴结构为研究铁电拓扑畴及拓扑材料提供方案;同时,纳米点的导电性可以通过极化翻转进行调控,提供的表征方法可以将这种调控可视化,提升数据的直观性、可靠性。

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身份证
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