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专利号	2020108492796	专利名称	一种基于RCLED的传感器及其制造方法
专利类型	发明专利	国际分类	G01N21/25(20060101),G01N21/01(20060101),B82Y15/00(20110101),B82Y40/00(20110101)
申请人	广东工业大学	申请地址	广东省广州市越秀区东风东路729号大院
发明人	刘文杰	申请日期	2020-08-21
下证状态	未知	更新时间	2026-09-17 17:22:59
专利摘要	本申请公开了一种基于RCLED的传感器及制造方法，通过将金属孔阵列的微纳米结构阵列置于具有谐振腔的发光二极管表面，发光二极管发光经过谐振腔选模作用，形成具有较高Q值的腔模，同时，较高Q值的腔模与微纳米结构阵列相互作用，需通过外置光源驱动工作，就可以直接用于探测金属纳米孔阵周围折射率的微小变化，从而可以实现便捷的裸眼观测。

买卖双方需提供			平台提供	转让后买方可获得
	企业	个人	专利代理委托书专利权转让协议办理文件副本请求书发明人变更声明	专利证书手续合格通知书专利登记簿副本
买方	企业营业执照企业组织机构代码证	身份证
卖方	企业营业执照专利证书原件	身份证专利证书原件