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一种一阶电光效应硅调制器及其制备工艺

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专利号 2021104950732 专利名称 一种一阶电光效应硅调制器及其制备工艺
专利类型 发明专利 国际分类 G02F 1/025 (2006.01),G02B 6/12 (2006.01),G02B 6/13 (2006.01),G02B 6/136 (2006.01)
申请人 三明学院 申请地址 福建省三明市三元区荆东路25号
发明人 崔积适 申请日期 2021-05-07
下证状态 未知 更新时间 2026-09-19 17:17:27
专利摘要 一种一阶电光效应硅调制器及其制备工艺,涉及电光效应硅调制器领域。制备工艺包括在硅波导区蚀刻形成非晶硅生长窗口,非晶硅生长窗口由硅波导区的上表面蚀刻形成;非晶硅生长窗口的底部还开设有辅助窗口,辅助窗口由非晶硅生长窗口的底部蚀刻形成;在非晶硅生长窗口中沉积非晶硅,并在沉积的非晶硅表面覆盖二氧化硅层;以波长为488nm的光辐照非晶硅生长窗口使非晶硅生长窗口中的非晶硅的至少一部分转变为单晶硅。制备得到的一阶电光效应硅调制器通过在硅结构中引入不对称应力而打破了中心反演对称结构对硅基电光调制器的功能限制,大大提高了硅基调制器的调制效率,有效减小了器件的尺寸、提高了带宽、降低了插损。

交易流程

转让材料

买卖双方需提供 平台提供 转让后买方可获得
企业 个人 专利代理委托书
专利权转让协议
办理文件副本请求书
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专利证书
手续合格通知书
专利登记簿副本
买方 企业营业执照
企业组织机构代码证
身份证
卖方 企业营业执照
专利证书原件
身份证
专利证书原件

服务保障

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