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适用于低温等离子协同催化降解VOCs反应工艺及膜催化剂制备工艺

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专利号 2019107536101 专利名称 适用于低温等离子协同催化降解VOCs反应工艺及膜催化剂制备工艺
专利类型 发明专利 国际分类 B01D 53/32 (2006.01);B01D 53/86 (2006.01);B01D 53/44 (2006.01);B01J 23/38 (2006.01);B01J 23/42 (2006.01);B01J 23/52 (2006.01);B01J 35/10 (2006.01);B01J 37/34 (2
申请人 杭州电子科技大学 申请地址 浙江省杭州市下沙高教园区2号大街
发明人 王卉 申请日期 2019-08-15
下证状态 已下证 更新时间 2026-10-25 17:30:00
专利摘要 本发明公开适用于低温等离子协同催化降解VOCs反应工艺及膜催化剂制备工艺。该方法首先将用于低温等离子体装置的TC4钛合金电极进行阳极氧化处理使其表面形成多孔结构,然后使用涂敷法使得催化剂前驱体附着于电极表面,最终将电极组装成低温等离子体反应器,通过反应器自身高压放电使催化剂和电极一体化,最后与含VOCs废气进行反应。废气在电极中,由于高压和低压的作用,气体分子将上下震动,此过程增大了气体与催化剂的接触面积。本发明有效解决了等离子体反应装置中催化剂填充困难的难题。

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卖方 企业营业执照
专利证书原件
身份证
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