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一种蒙脱土基光催化超疏水涂料及其制备方法

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专利号 2020102933386 专利名称 一种蒙脱土基光催化超疏水涂料及其制备方法
专利类型 发明专利 国际分类 C09D127/12,C09D5/16,C09D7/62
申请人 华南理工大学 申请地址 广东省广州市天河区五山路381号
发明人 高强 申请日期 2020-04-15
下证状态 已下证 更新时间 2026-08-26 13:43:57
专利摘要 本发明公开了一种蒙脱土基光催化超疏水涂料及其制备方法;首先利用有机插层改性剂对蒙脱土进行改性;再对插层改性蒙脱土和纳米粉体分别进行疏水改性后作为无机组分,结合有机树脂制备超疏水涂料,将蒙脱土基光催化超疏水涂料采用成膜工艺涂覆到基体表面;所得的蒙脱土基光催化超疏水涂层的静态接触角均大于150°,滚动角小于10°,经80次耐磨测试后,接触角差异值在10%内;在户外经过3个月后涂层的色度变化值在10%内,且涂层能在紫外光的照射下降解有机污染物,实现基体的超疏水自清洁功能。本发明制备的蒙脱土基光催化超疏水涂料分散性好,所制备的涂层与基体的粘结力好,成本低,适用于大面积制备,可实现工业化生产。

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