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专利号	2020106368563	专利名称	一种间距可控的化学机械研磨头
专利类型	发明专利	国际分类
申请人		申请地址
发明人		申请日期	2020-07-04
下证状态	已下证	更新时间	2026-08-20 14:09:42
专利摘要	本发明公开了一种间距可控的化学机械研磨头，研磨支撑座的底部升降设置有圆环状的研磨保持环；研磨保持环与压头同轴设置并且压头位于研磨保持环内；研磨保持环的内径大于圆晶的直径；限位底环与研磨保持环同轴设置；限位底环位于研磨保持环的下侧并且两者之间的间隙可调设置；限位底环的内径大于研磨垫的直径；研磨平台的上端面上成型有同轴设置的供限位底环插入的限位环槽；限位环槽内设置有用于限制限位底环的限位装置；限位底环相对于研磨平台旋转设置。本发明工作时，研磨保持环和研磨垫之间的间隙保持在一定的间距，这样限位底环不会被研磨垫磨损同时有利于研磨液和研磨产物排出，提高研磨质量。

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	企业	个人	专利代理委托书专利权转让协议办理文件副本请求书发明人变更声明	专利证书手续合格通知书专利登记簿副本
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卖方	企业营业执照专利证书原件	身份证专利证书原件