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一种基于异构核的深度残差隐写分析方法

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专利号 2019108357429 专利名称 一种基于异构核的深度残差隐写分析方法
专利类型 发明专利 国际分类 G06T1/00(2006.01),G06N3/04(2006.01),G06N3/08(2006.01)
申请人 申请地址 550001 贵州省贵阳市云岩区宝山北路116号
发明人 申请日期 2019-09-05
下证状态 未知 更新时间 2025-01-13 07:52:48
专利摘要 本发明公开了一种基于异构核的深度残差隐写分析方法,在ResNets的预处理阶段引入SRM模型,并将HetConv异构核作为卷积核应用在DRHNet网络中;包括以下步骤:步骤1、提取图像每个SRM子模型的特征向量;步骤2、将图像所有的特征向量合并重组;步骤3、讲原始图像和载密后的图像放入DRHNet网络模型训练;步骤4、将待检测图像放入训练好的DRHNet隐写分析网络检测,其结果作为图像是否嵌密的参考。本发明在保证隐写分析准确度的同时,克服被检测的隐写图像尺寸的局限,提升隐写分析网络的通用性,降低网络在训练阶段的训练时间。

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卖方 企业营业执照
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身份证
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