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一种低介电损耗CaCu<sub>3</sub>Ti<sub>4</sub>O<sub>12</sub>陶瓷的负压烧结方法

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  • 2020114755549

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专利号 2020114755549 专利名称 一种低介电损耗CaCu<sub>3</sub>Ti<sub>4</sub>O<sub>12</sub>陶瓷的负压烧结方法
专利类型 发明专利 国际分类 C04B35/64(2006.01),C04B35/622(2006.01),C04B35/462(2006.01)
申请人 申请地址 330000江西省南昌市瑶湖高校园区
发明人 申请日期 2020-12-14
下证状态 未知 更新时间 2025-01-13 07:45:38
专利摘要 本发明公开了一种制备低介电损耗、高介电常数的钛酸铜钙CaCu3Ti4O12(CCTO)陶瓷的负压烧结方法,以解决现有烧结技术制备的CCTO陶瓷介电损耗较高的技术问题。本发明的技术方案是:CCTO陶瓷坯体在气氛炉中经过常压空气气氛下的升温阶段1、常压空气气氛下的保温阶段1、负压空气气氛下的升温阶段2、负压空气气氛下的保温阶段2、高含量氧气的氧氮混合气氛下的降温阶段1、高含量氧气的氧氮混合气氛下的保温阶段3和常压空气气氛下随炉冷却的降温阶段2后而得到CCTO陶瓷。本发明技术方案所得的CCTO陶瓷不仅介电常数得到提高,而且介电损耗明显降低,介电损耗值低达0.02。

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