实用新型
专利类型未知
专利状态2020233209663
专利号专利号 | 2020233209663 | 专利名称 | 新型高溅射率磁控旋转圆柱靶 |
---|---|---|---|
专利类型 | 实用新型 | 国际分类 | C23C14/35 |
申请人 | 莱糸真空科技(常州)有限公司 | 申请地址 | 江苏省常州市新北区黄河西路388号—16 |
发明人 | 王伟平 | 申请日期 | 2020-12-31 |
下证状态 | 未知 | 更新时间 | 2025-01-12 07:15:47 |
专利摘要 | 本实用新型公开了新型高溅射率磁控旋转圆柱靶,涉及磁控旋转圆柱靶技术领域,为解决现有的磁控旋转圆柱靶的溅射性能还不够稳定,溅射效率不够高的问题。所述旋转圆柱靶的一端安装有侧边固定块,所述旋转圆柱靶的另一侧安装有连接传动套,所述连接传动套的另一侧安装有固定限位板,所述固定限位板的另一侧安装有固定腔体套,所述固定腔体套的另一侧安装有传动陶瓷轴承,所述传动陶瓷轴承的另一侧安装有部件安装架,所述部件安装架另一侧的上方安装有伺服电机,所述伺服电机的下方安装有电器工作箱,所述部件安装架的另一端设置有连接固定套,所述连接固定套的内侧安装有内部固定片。 |
买卖双方需提供 | 平台提供 | 转让后买方可获得 | ||
---|---|---|---|---|
企业 | 个人 | 专利代理委托书 专利权转让协议 办理文件副本请求书 发明人变更声明 | 专利证书 手续合格通知书 专利登记簿副本 | |
买方 | 企业营业执照 企业组织机构代码证 | 身份证 | ||
卖方 | 企业营业执照 专利证书原件 | 身份证 专利证书原件 |
专利状态:已下证
专利类型:发明专利
询价专利状态:已下证
专利类型:发明专利
询价专利状态:已下证
专利类型:发明专利
询价专利状态:已下证
专利类型:发明专利
询价您的咨询我们已收到,稍后会有专业顾问与您联系。