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新型高溅射率磁控旋转圆柱靶

  • 实用新型

    专利类型
  • 未知

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  • 2020233209663

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专利信息

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专利号 2020233209663 专利名称 新型高溅射率磁控旋转圆柱靶
专利类型 实用新型 国际分类 C23C14/35
申请人 莱糸真空科技(常州)有限公司 申请地址 江苏省常州市新北区黄河西路388号—16
发明人 王伟平 申请日期 2020-12-31
下证状态 未知 更新时间 2025-01-12 07:15:47
专利摘要 本实用新型公开了新型高溅射率磁控旋转圆柱靶,涉及磁控旋转圆柱靶技术领域,为解决现有的磁控旋转圆柱靶的溅射性能还不够稳定,溅射效率不够高的问题。所述旋转圆柱靶的一端安装有侧边固定块,所述旋转圆柱靶的另一侧安装有连接传动套,所述连接传动套的另一侧安装有固定限位板,所述固定限位板的另一侧安装有固定腔体套,所述固定腔体套的另一侧安装有传动陶瓷轴承,所述传动陶瓷轴承的另一侧安装有部件安装架,所述部件安装架另一侧的上方安装有伺服电机,所述伺服电机的下方安装有电器工作箱,所述部件安装架的另一端设置有连接固定套,所述连接固定套的内侧安装有内部固定片。

交易流程

转让材料

买卖双方需提供 平台提供 转让后买方可获得
企业 个人 专利代理委托书
专利权转让协议
办理文件副本请求书
发明人变更声明
专利证书
手续合格通知书
专利登记簿副本
买方 企业营业执照
企业组织机构代码证
身份证
卖方 企业营业执照
专利证书原件
身份证
专利证书原件

服务保障

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