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专利号	2014103417435	专利名称	一种石墨烯‑聚酰亚胺导电黑膜的制备方法
专利类型	发明专利	国际分类	C08J5/18(2006.01),C08L79/08(2006.01),C08G73/10(2006.01),C08K3/04(2006.01)
申请人		申请地址	150006黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号哈尔滨工业大学
发明人		申请日期	2014-07-17
下证状态	未知	更新时间	2025-01-11 09:21:20
专利摘要	本发明公开了一种石墨烯‑聚酰亚胺导电黑膜的制备方法。所述方法包括对可膨胀石墨进行二次膨胀的步骤、制备石墨烯与黑色填料分散液的步骤、获得石墨烯‑聚酰胺酸黑色溶液的步骤以及制备石墨烯‑聚酰亚胺导电黑膜的步骤。本发明的方法简单，易于操作，成本低。由本发明方法获得的石墨烯‑聚酰亚胺导电黑膜表面平整，吸光率高，耐热性好，机械强度佳,可用本发明的方法制成黑色覆盖膜,黑色抗静电薄膜,黑色阻燃性薄膜等,广泛用于LED、挠性印制电路板、军品软塑包装膜、航天飞行器的电磁波屏蔽和耐热材料等领域。

买卖双方需提供			平台提供	转让后买方可获得
	企业	个人	专利代理委托书专利权转让协议办理文件副本请求书发明人变更声明	专利证书手续合格通知书专利登记簿副本
买方	企业营业执照企业组织机构代码证	身份证
卖方	企业营业执照专利证书原件	身份证专利证书原件