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一种利用微弧氧化在镁合金表面制备低太阳吸收率高发射率涂层的方法

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专利号 2014108220353 专利名称 一种利用微弧氧化在镁合金表面制备低太阳吸收率高发射率涂层的方法
专利类型 发明专利 国际分类 C25D11/30
申请人 申请地址 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号
发明人 申请日期 2014-12-25
下证状态 未知 更新时间 2025-01-11 09:21:05
专利摘要 一种利用微弧氧化在镁合金表面制备低太阳吸收率高发射率涂层的方法,它涉及一种镁合金功能化热控涂层的制备方法。本发明的目的是要解决现有应用于航天器的铝合金材料重量大,镁合金热控涂层吸收率高和镁合金基体与热控涂层高结合力低的问题。制备方法:首先对镁合金进行处理,然后采用脉冲微弧氧化电源进行微弧氧化,即完成利用微弧氧化在镁合金表面制备低太阳吸收率高发射率涂层的方法。本发明在镁合金表面制备的低太阳吸收率高发射率涂层厚度达到30μm~120μm,太阳吸收率为0.2~0.4,发射率为0.85~0.95,粗糙度为1μm~10μm。本发明可获得一种利用微弧氧化在镁合金表面制备低太阳吸收率高发射率涂层的方法。

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卖方 企业营业执照
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