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一种用EBPVD制备Zr/Ni反应叠层箔的方法

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专利号 2015104051721 专利名称 一种用EBPVD制备Zr/Ni反应叠层箔的方法
专利类型 发明专利 国际分类 C23C14/30,C23C14/14
申请人 哈尔滨工业大学 申请地址 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号
发明人 宋广平 申请日期 2015-07-10
下证状态 未知 更新时间 2025-01-11 09:20:22
专利摘要 一种用EBPVD制备Zr/Ni反应叠层箔的方法,涉及一种Zr/Ni反应叠层箔的制备方法。本发明是要解决目前Zr/Ni叠层箔制备方法生产效率低、生产成本高、Zr/Ni层界面易引入杂质、造成污染、不利于获得更高的自蔓延速率的技术问题。本发明:一、EBPVD前期准备工作;二、预热锭料;三、沉积分离层;四、沉积叠层箔。本发明Zr/Ni反应叠层箔结构均匀,层厚度可控,界面完整清晰无污染,生产效率高,成本低,并且本发明的各种基板可以使得在制备过程中基板的温度低于200℃以免引起Zr/Ni反应叠层箔的燃烧;本发明制备的Zr/Ni反应叠层箔可在短时间内以自蔓延的方式放出极大的热量,可以应用于特种焊接领域。

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