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专利号	201910541971X	专利名称	一种分子印迹荧光聚合物的制备方法
专利类型	发明专利	国际分类	C08G77/26(2006.01),C08J9/28(2006.01),B01J20/286(2006.01),G01N21/64(2006.01),C08L83/08(2006.01)
申请人	临沂大学	申请地址	273306 山东省临沂市兰山区工业大道北段西侧
发明人	徐守芳	申请日期	2019-06-21
下证状态	未知	更新时间	2025-01-11 08:39:09
专利摘要	本发明公开了一种分子印迹荧光聚合物的制备方法，包括采用共溶剂法制备具有多级介孔硅结构双酚A（BPA）印迹聚合物，水热法制备巯基丙酸修饰的表面带有羧基的CdTe量子点和在EDC的作用下，利用羧基和氨基的缩合反应将所述CdTe量子点键和到多级介孔硅结构双酚A（BPA）印迹聚合物内部等步骤。这种方法中，量子点不用经历碱性条件的下的聚合过程和长时间的酸性条件下模板洗脱过程，其光谱性能和荧光强度在分子印迹聚合物中得到完好的保存，从而使得检测灵敏度大大提升。

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