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一种核壳结构Ga<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/In<sub>2</sub>O<sub>3</sub>纳米晶粒及其制备方法

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  • 2019100424976

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专利号 2019100424976 专利名称 一种核壳结构Ga<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/In<sub>2</sub>O<sub>3</sub>纳米晶粒及其制备方法
专利类型 发明专利 国际分类
申请人 申请地址
发明人 申请日期 2019-01-17
下证状态 未知 更新时间 2025-01-11 07:52:14
专利摘要 本发明涉及纳米材料技术领域,尤其涉及一种核壳结构Ga<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/In<sub>2</sub>O<sub>3</sub>纳米晶粒及其制备方法,所述Ga<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/In<sub>2</sub>O<sub>3</sub>纳米晶粒具有核壳结构,所述核壳结构是以Ga<sub>2</sub>O<sub>3</sub>为核,In<sub>2</sub>O<sub>3</sub>为壳,以金属镓和金属铟为原料,经混合后置于真空管式炉中,反应而成。本发明的一种核壳结构Ga<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/In<sub>2</sub>O<sub>3</sub>纳米晶粒及其制备方法,效率高、成本低、产品收率高,制备所得到的Ga<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/In<sub>2</sub>O<sub>3</sub>纳米晶粒具有的核壳结构,提高了迁移率且降低漏电。

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