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一种TADF发光分子发光性能的高通量预测方法

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专利号 2020111814526 专利名称 一种TADF发光分子发光性能的高通量预测方法
专利类型 发明专利 国际分类 G16C20/20,G06N3/08,G06N3/04
申请人 成都职业技术学院 申请地址 四川省成都市高新区站华路15号
发明人 谭筝 申请日期 2020-10-29
下证状态 未知 更新时间 2025-01-11 07:21:28
专利摘要 本发明公开了一种TADF发光分子发光性能的高通量预测方法,该方法对满足预设光电性能条件的分子给体、分子受体以及分子连接体进行虚拟合成得到TADF发光分子,将部分TADF发光分子作为样本分子,将样本分子的分子结构转换成ECFP分子指纹,使用基于深度神经网络的回归模型对样本分子的分子特征和发光性能进行训练,并使用训练好的回归模型对所有TADF发光分子发光性能进行预测,最后选择预设发光性能阀值,对TADF发光分子进行筛选,筛选出的TADF发光分子作为实验合成对象。本发明能够很大程度的减少TADF发光分子设计的周期和成本。

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