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一种强吸收圆二色性的单层三折孔纳米薄膜及其制备方法

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专利号 2018103673980 专利名称 一种强吸收圆二色性的单层三折孔纳米薄膜及其制备方法
专利类型 发明专利 国际分类
申请人 申请地址
发明人 申请日期 2018-04-23
下证状态 未知 更新时间 2025-01-10 08:34:22
专利摘要 本发明具体涉及一种强吸收圆二色性的单层三折孔纳米薄膜及其制备方法,该单层三折孔纳米薄膜由多个相同的纳米单元上下、左右组合构成,且呈单层手性结构,纳米单元的横截面为正方形,所述纳米单元上开设有三折孔,三折孔具有手性特征,且三折孔的长度方向与正方形的边长平行。该单层三折孔纳米薄膜的制备方法,包括甩胶后烘、曝光、显定影后烘、真空镀膜、溶胶后吹干步骤,比现有的三层、两层纳米薄膜的制备方法更简单,且该单层三折孔纳米薄膜实现强吸收圆二色性,且信号分布在可见光波段,利于信号的探测。  

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身份证
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