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一种基于溶菌酶二维纳米薄膜进行金属无电沉积的方法

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专利号 2015107178457 专利名称 一种基于溶菌酶二维纳米薄膜进行金属无电沉积的方法
专利类型 发明专利 国际分类 C23C18/54(2006.01)
申请人 陕西师范大学 申请地址 710062陕西省西安市长安南路199号
发明人 杨鹏 申请日期 2015-10-29
下证状态 未知 更新时间 2025-01-10 08:31:41
专利摘要 本发明公开了一种基于溶菌酶二维纳米薄膜进行金属无电沉积的方法,该方法先通过溶菌酶的相转变在基材表面形成一层溶菌酶二维纳米薄膜,然后利用溶菌酶二维纳米薄膜吸附催化剂,再将表面吸附催化剂的基材浸入金属无电沉积液中,使基材表面沉积金属。本发明基于溶菌酶二维纳米薄膜进行金属无电沉积,不但拓展了基材的选择性,而且溶菌酶二维纳米薄膜本身带正电,可以直接吸附带负电的钯盐催化剂,不需要在基材表面再进行任何其他复杂的聚合反应和接枝反应,操作简单、绿色环保;同时溶菌酶二维纳米薄膜对紫外光和电子束较为敏感,故可在紫外光和电子束曝光后实现表面图案化,简化了图案化的过程。

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