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溶菌酶二维纳米薄膜作为光刻胶的应用

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专利号 2015107244552 专利名称 溶菌酶二维纳米薄膜作为光刻胶的应用
专利类型 发明专利 国际分类 G03F7/004(2006.01)
申请人 陕西师范大学 申请地址 710062陕西省西安市长安南路199号
发明人 杨鹏 申请日期 2015-10-29
下证状态 未知 更新时间 2025-01-10 08:31:40
专利摘要 本发明公开了一种溶菌酶二维纳米薄膜作为光刻胶的应用。本发明以溶菌酶二维纳米薄膜作为光刻胶,其组分为从自然界能够广泛获取的天然生物分子溶菌酶,避免了传统光刻胶在人工合成时造成的环境污染,且溶菌酶二维纳米薄膜透明度较高,粗糙度低,厚度可控,不需要涂胶、烘焙等繁琐工艺,在制备溶菌酶二维纳米薄膜的过程中只需原位生长于基片表面或直接将制备好的溶菌酶二维纳米薄膜粘附在基片表面,易实现大面积制备,且其具有较好的紫外、电子束敏感度,可用紫外、电子束方式曝光,曝光之后仅需用水显影,对环境无污染,显影效果较好;其同时还具有良好的抗刻蚀性能,在刻蚀后可选用盐酸胍水溶液、醋酸水溶液、乙二酸水溶液去胶。

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