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一种一维SnSe螺旋位错纳米线及其制备方法和应用

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专利号 2024105616846 专利名称 一种一维SnSe螺旋位错纳米线及其制备方法和应用
专利类型 发明专利 国际分类 C01B 19/00 (2006.01),H10N 10/852 (2023.01),B82Y 15/00 (2011.01),B82Y 30/00 (2011.01),B82Y 40/00 (2011.01)
申请人 中国矿业大学 申请地址 江苏省徐州市南郊翟山
发明人 申请日期 2024-05-08
下证状态 未知 更新时间 2025-01-10 07:54:04
专利摘要 本发明属于半导体相变存储材料技术领域,具体涉及一种一维SnSe螺旋位错纳米线及其制备方法和应用。所述制备方法采用以下步骤:将SnSe粉末置于管式炉中心区域,将基底材料置于下游低温端,调节c/c<subgt;0</subgt;为1.2‑1.4,催化剂为Au纳米颗粒,进行加热反应,得到所述一维SnSe螺旋位错纳米线。本发明通过化学气相沉积法实现一维范德华SnSe螺旋位错纳米线形貌,结构,尺寸和角度的可控生长;所述制备方法具有工艺简单,操作易控制,所用试剂相对价廉及绿色环保等优点;所述SnSe螺旋位错纳米线具有优越的电学、光学性质,同时还具有热学性能优良、环境友好、化学性质稳定且成本低等特点,在红外光电仪器,记忆切换开关和热电冷却材料等领域存在着巨大的应用价值。

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