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表面具有高导电结构缺陷的氟化碳及其制备方法和应用

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专利号 2024105083818 专利名称 表面具有高导电结构缺陷的氟化碳及其制备方法和应用
专利类型 发明专利 国际分类 C01B 32/10 (2017.01),H01M 4/583 (2010.01),H01M 4/587 (2010.01),H01M 4/62 (2006.01),H01M 4/36 (2006.01),H01M 6/14 (2006.01)
申请人 中国矿业大学 申请地址 江苏省徐州市铜山区大学路1号
发明人 申请日期 2024-04-26
下证状态 未知 更新时间 2025-01-10 07:53:59
专利摘要 本发明属于氟化碳材料技术领域,公开了表面具有高导电结构缺陷的氟化碳及其制备方法和应用。所述制备方法为:于惰性气氛中,将氟化碳和氮源混合后进行研磨处理,获得混合物;于惰性气氛中,将所述混合物于200~500℃下进行热处理,即获得表面具有高导电结构缺陷的氟化碳。本发明通过将氟化碳和氮源研磨后进行热处理,使氮源在热处理过程中分解产生气体,成功制备出表面高导电结构缺陷的氟化碳,降低了表面C‑F共价键和C‑F<subgt;2</subgt;\C‑F<subgt;3</subgt;非活性基团,形成了高导电石墨畴界面,引入适当的缺陷和氮掺杂,显著提升氟化碳的离子/电子导电性,降低锂/氟化碳一次电池的初始电压滞后性,提高放电电压平台。

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企业组织机构代码证
身份证
卖方 企业营业执照
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身份证
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