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一种直接探测中子的

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专利号 2021113529329 专利名称 一种直接探测中子的
专利类型 发明专利 国际分类 C23C 16/34 (2006.01),C23C 16/448 (2006.01),C23C 16/455 (2006.01),C23C 16/458 (2006.01),C23C 16/52 (2006.01),C23C 16/44 (2006.01)
申请人 郑州工程技术学院,东华理工大学 申请地址 河南省郑州市惠济区英才街18号
发明人 申请日期 2021-11-16
下证状态 未知 更新时间 2025-01-10 07:35:43
专利摘要 本发明公开一种直接探测中子的<supgt;10</supgt;BN材料的低气压化学气相沉积生长装置及其生长方法,以源加热炉加热生长源,使其分解为气态产物,以氩气或者氮气作为气态产物的载气,在混气罐中混气结束后通入刚玉管中进行<supgt;10</supgt;BN薄膜的生长。该生长方法使用的生长源为富集<supgt;10</supgt;B,使得生长的<supgt;10</supgt;BN薄膜中有较好的<supgt;10</supgt;B丰度;该生长方法的生长源与载气在混气罐中混气结束后通入反应腔室,使得生长源能和载气均匀混合,能有效地提高<supgt;10</supgt;BN薄膜的生长速率和质量;该生长方法利用加热线圈加热生长源的传输路径,以减少前驱体在传输过程中的损耗;该生长方法利用双温区的高温管式炉,使得温度场更加稳定。

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