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一种GaN中子探测器用的10B4C中子转换层制备方法

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专利号 2020111748789 专利名称 一种GaN中子探测器用的10B4C中子转换层制备方法
专利类型 发明专利 国际分类 G01T3/08(2006.01),H01L31/115(2006.01),H01L31/0216(2014.01),H01L31/18(2006.01)
申请人 申请地址
发明人 朱志甫 申请日期 2020-10-28
下证状态 未知 更新时间 2025-01-10 07:34:23
专利摘要 本发明公开一种GaN中子探测器用的10B4C中子转换层制备方法,包含以下步骤:在GaN体材料的两面分别沉积Cr/Pt/Au复合金属层并退火,制备成GaN器件;将10B4C粉末、丙酮和异丙醇形成的混合液装入胶管滴管中并超声混合均匀;将10B4C混合液分别滴在被匀胶机托盘吸附的GaN器件的正表面和背表面,启动匀胶机并加热,使10B4C中子转换材料均匀凝固在GaN器件的正表面和北表面;将聚酰亚胺悬涂在含有10B4C中子转换层的GaN器件正表面和背表面并烘烤固化,完成GaN中子探测器用的10B4C中子转换层制备,本发明具有制备工艺简单、制备周期短、原材料利用率高和厚膜厚度可控等优点,在热中子探测中实现了高的探测效率和高的灵敏度。

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