欢迎来到中细软旗下技术转移平台

服务热线：400-700-0065

节能环保新能源新材料高端制造生物产业数字创意

免费询价在线咨询

专利号	2021103404774	专利名称	用于研究光胁迫对光系统II结构和功能影响的装置及方法
专利类型	发明专利	国际分类	G01N33/00(2006.01),B01L9/06(2006.01)
申请人		申请地址	276000山东省临沂市兰山区工业大道北段西侧
发明人	董芳	申请日期	2021-03-30
下证状态	未知	更新时间	2025-01-10 07:28:54
专利摘要	本发明提供了用于研究光胁迫对光系统II结构和功能影响的装置及方法，装置包括装置主体、分段光照装置、叶片处理装置、光系统II处理装置和内周天线处理装置，分段光照装置包括竖直将装置主体平均分为三部分的隔板槽一、二、三，隔板槽一、二、三的夹角处分别设有可调节光源，隔板槽一、二、三连接处设有圆柱型光照控制槽，叶片处理装置包括弧形槽体一、叶片存储装置和密封遮盖，光系统II处理装置包括弧形槽体二和试管架一，内周天线处理装置包括弧形槽体三和试管架二。总之，本发明具有结构新颖、操作方便、研究效率高等优点。

买卖双方需提供			平台提供	转让后买方可获得
	企业	个人	专利代理委托书专利权转让协议办理文件副本请求书发明人变更声明	专利证书手续合格通知书专利登记簿副本
买方	企业营业执照企业组织机构代码证	身份证
卖方	企业营业执照专利证书原件	身份证专利证书原件