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一种硫化氢氧化物双纳米框架材料的制备方法及其应用

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专利号 2021104179148 专利名称 一种硫化氢氧化物双纳米框架材料的制备方法及其应用
专利类型 发明专利 国际分类 C08G83/00(2006.01),C25B1/02(2006.01),C25B11/085(2021.01)
申请人 申请地址 210024江苏省南京市宁海路122号
发明人 邱晓雨 申请日期 2021-04-19
下证状态 未知 更新时间 2025-01-10 07:06:36
专利摘要 本发明公开了一种硫化氢氧化物双纳米框架材料的制备方法及其应用,该方法以制备出的尺寸在100 nm左右的镍钴普鲁士蓝类似物(NiCo‑PBA)作为模板,通过阴离子交换法,利用硫化钠与氢氧化钠同时对其进行精细雕刻,可获得一种硫化物与氢氧化物同时存在的纳米框架结构。与传统制备方法相比,该方法简单方便,可大量制备,具有的比表面积大、活性位点多、稳定性好等优点,从而对析氧反应表现出优异的电催化活性和电化学稳定性。

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