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图切地质剖面中侵入构造的模型构建方法及系统

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专利号 2020111542150 专利名称 图切地质剖面中侵入构造的模型构建方法及系统
专利类型 发明专利 国际分类 G06T 11/20 (2006.01)
申请人 南京师范大学 申请地址 江苏省南京市鼓楼区宁海路122号
发明人 申请日期 2020-10-26
下证状态 未知 更新时间 2025-01-10 07:05:59
专利摘要 本发明公开了一种图切地质剖面中侵入构造的模型构建方法及装置,方法包括步骤:(1)加载图切地质剖面的地层面图层和地层界线图层;(2)根据地层代码,提取侵入岩层数据;(3)提取任一侵入岩层地表交点;(4)计算侵入岩层的底部交点和控制点;(5)根据地表交点、底部交点以及控制点,生成光滑侵入岩层推断地层曲线;(6)根据推断地层曲线,分割原始地层面状要素;(7)合并构建侵入岩层。本发明可以有效提高图切地质剖面中侵入构造的建模质量。

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