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一维光子晶体结构聚合物膜的制备方法

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专利号 2020107574869 专利名称 一维光子晶体结构聚合物膜的制备方法
专利类型 发明专利 国际分类 C08F220/56(2006.01),C08F220/06(2006.01),C08F222/38(2006.01),C08F2/48(2006.01),C08J9/26(2006.01),G01N21/25(2006.01),G01N21/47(2006.01),G01N21/78(2006.01),C08L33/26(2006.01)
申请人 申请地址 116622 辽宁省大连市经济技术开发区学府大街10号
发明人 申请日期 2020-07-31
下证状态 未知 更新时间 2025-01-09 14:11:22
专利摘要 本发明涉及一维光子晶体结构聚合物膜的制备方法,涉及光子晶体和分子印迹技术领域。本发明的技术方案主要包括:包括如下步骤:将模板分子、功能单体、丙烯酰胺、交联剂与甲醇混合,过夜搅拌12小时;加入光引发剂,氮气除氧后即得到前驱液;在洁净的玻璃片上滴加前驱液,用一维光子晶体模板覆盖于溶液上,将其置于紫外灯下照射,引发聚合,聚合后揭下即得一维光子晶体结构聚合物膜。本发明将光子晶体与分子印迹技术相结合,与传统单一的分子印迹制备检测方法相比,实现了可视化检测,在检测中可通过聚合物膜颜色的变化来判断该分子印迹膜结构的变化。

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身份证
卖方 企业营业执照
专利证书原件
身份证
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