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可防止偏移的半导体晶圆片电镀系统

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专利号 202211441268X 专利名称 可防止偏移的半导体晶圆片电镀系统
专利类型 发明专利 国际分类 C25D5/08(2006.01),C25D7/12(2006.01),C25D17/06(2006.01),C25D21/08(2006.01)
申请人 申请地址 230000 安徽省合肥市经济技术开发区紫云路292号
发明人 申请日期 2022-11-17
下证状态 未知 更新时间 2025-01-09 14:09:21
专利摘要 本发明公开了可防止偏移的半导体晶圆片电镀系统,属于半导体领域,包括以下步骤:S1、配置预处理液,并将预处理液连接喷洒模块,利用喷洒模块喷出;S2、将半导体晶圆片放置在处理装置内部,利用夹持模块进行夹持;S3、将处理装置整体放置在预处理液内部,利用转动部件对处理装置整体进行转动;S4、将处理装置整体从预处理液取出,并将处理装置整体倒置,利用喷洒模块对半导体晶圆片底部进行预处理;S5、烘干部件对半导体晶圆片进行烘干,随后利用电镀模块进行电镀处理。本申请通过采用在对半导体晶圆片进行加工之前进行充分的预处理,保证半导体晶圆片的外表没有浮尘或者杂质,保证半导体晶圆片的正常使用。

交易流程

转让材料

买卖双方需提供 平台提供 转让后买方可获得
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办理文件副本请求书
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卖方 企业营业执照
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身份证
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服务保障

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