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专利号	202010635419X	专利名称	一种基片的预处理装置
专利类型	发明专利	国际分类	B29C63/02(2006.01),B32B38/00(2006.01),B32B37/08(2006.01)
申请人		申请地址	317500 浙江省台州市温岭市箬横镇胜利村三塘南219号
发明人		申请日期	2020-07-04
下证状态	已下证	更新时间	2026-08-20 14:09:42
专利摘要	本发明公开了一种基片的预处理装置，预处理箱的左侧壁上成型有预处理进料口、右侧壁上成型有预处理出料口；工艺箱的左侧壁上成型有工艺处理进出口；预处理箱的左端面上升降设置有左封闭板；工艺箱和预处理箱之间升降设置有右封闭板；预处理箱内设置有左右传递装置；左右传递装置包括上部的矩形框状的基片限位框和下部的矩形框状的左右移动框；左右移动框左右移动设置在预处理箱内；基片限位框左右移动设置在左右移动框的上端面上；左右移动框的左右侧壁之间成型有若干前后均匀分布的下支撑板。

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	企业	个人	专利代理委托书专利权转让协议办理文件副本请求书发明人变更声明	专利证书手续合格通知书专利登记簿副本
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