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一种低褶皱密度石墨烯膜的制备方法

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专利号 2018113448175 专利名称 一种低褶皱密度石墨烯膜的制备方法
专利类型 发明专利 国际分类 C01B32/19,C01B32/194
申请人 广州金穗芯能科技有限公司 申请地址 广东省广州市越秀区农林下路81号之一19B、19C、19D、19E、19F1-B4
发明人 苗中正 申请日期 2018-11-05
下证状态 未知 更新时间 2025-01-11 08:02:50
专利摘要 本发明提供一种低褶皱密度石墨烯膜的制备方法。采用氧化剂和浓硫酸对三氯化铁石墨插层化合进行氧化,离心清洗,向溶液中添加过氧化氢,在水热釜或其他相应仪器中进行亚临界反应,高效制备外围功能化的石墨烯;将外围功能化的石墨烯超声分散,用尼龙滤膜抽滤成膜,室温下用氢碘酸还原,加热薄膜清除溶剂后,对薄膜高压处理。本发明所述方法制备的外围功能化的石墨烯可以改善石墨烯的分散性能,制备具有强的面面相互作用和更优的有序结构的石墨烯膜,大大减少了石墨烯膜的褶皱,使石墨烯具备优异的导热和导电性能,制备工艺简单,对设备的要求较低,适于工业或实验室操作。

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