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一种单孔中空硼亲和印迹聚合物的制备方法和应用

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专利号 2018104204006 专利名称 一种单孔中空硼亲和印迹聚合物的制备方法和应用
专利类型 发明专利 国际分类 C08J9/26;B01J13/14;C08F222/14;B01J20/30;C08F230/06;C08F220/56;B01J20/26;C08F285/00
申请人 江苏大学 申请地址 江苏省镇江市京口区学府路301号
发明人 白雪;潘建明;王盼;贾强 申请日期 2018-05-04
下证状态 未知 更新时间 2025-01-10 08:28:12
专利摘要 本发明涉及一种单孔中空硼亲和印迹聚合物的制备方法和应用,尤其涉及蒸馏‑沉淀聚合制备单孔中空硼亲和分子印迹聚合物的方法,属于生物医药功能材料制备技术领域;本发明专利首先通过DPP利用4‑乙烯基苯硼酸单体引发聚合包覆在羧基封端的聚苯乙烯球模板表面;此外,在DPP的过程中,伴随的微相分离效应和壳材料的对称体积收缩诱导了聚合物壳中孔的产生,通过THF蚀刻带孔的聚合物壳即可获得单孔中空硼亲和印迹聚合物;然后将单孔中空硼亲和印迹聚合物密封在透析袋中用于选择性分离纯化LTL;本发明制备的单孔中空硼亲和印迹聚合物克服了现有常见分子印迹吸附剂对LTL吸附分离动力学低、饱和容量小和选择性差等问题。  

交易流程

转让材料

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买方 企业营业执照
企业组织机构代码证
身份证
卖方 企业营业执照
专利证书原件
身份证
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